為先進製程打造可被量化、可被控制的潔淨解決方案
隨著製程節點持續微縮，汙染來源已不再僅限於可見粒子。
微粒、有機殘留、氣態分子污染（AMC）與材料溶出，正成為影響良率與設備穩定性的關鍵因素。
我們專注於先進製程汙染物的機制研究、分析方法建立，以及對應潔淨設備的系統化開發，協助客戶在量產環境中有效降低製程風險。
汙染物研究重點
多尺度汙染來源解析
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粒子污染（Particles）
亞微米至次微米等級附著與再附著機制 -
有機污染（Organic Films / Residues）
製程氣體、溶劑、材料揮發物形成之薄膜殘留 -
氣態分子污染（AMC）
酸性、鹼性與有機分子對製程與設備的長期影響 -
材料溶出與交互污染
高分子材料於長時間使用下的潛在風險
分析方法與工程化驗證
我們將汙染研究導入工程層級，而非停留於實驗室數據。
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製程與設備實際條件下的污染行為分析
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汙染物生成、附著、累積與再釋放機制研究
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清洗前後差異的量化評估
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清洗效果的可重複性與長期穩定性驗證
我們的價值
我們不僅分析汙染，更將研究成果轉化為可落地的設備與工程方案。
透過研究、分析與設備開發的整合，協助客戶在先進製程中維持穩定、高良率的運行環境。